リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-274812
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154659
出願日： 1997年10月07日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】通常の投影光学系と比較してワーキングディスタンスを減少させる投影光学系が組み入れられても、高精度に焦点合わせ及びチルト制御を行う。【解決手段】焦点合わせ装置は、第1の位置に検出領域を備えた第1の検出系、第2の位置に検出領域を備えた第2の検出系、及び第3の位置に検出領域を備えた第3の検出系を備える。第1の位置、第2の位置、第3の位置は対物レンズ光学系の視野の外側に設けられ第1、第2の位置、第3の位置は間隔があけられる。第1の焦点位置と目標焦点位置との間のずれを計算し第1の検出系による検出のときに、第2の焦点位置を一時的に記憶する。第1の検出系の検出領域に対応する被加工物上の領域が被加工物と対物レンズ光学系との相対移動によって対物レンズ光学系の視野に位置決めされたとき、コントローラが、計算されたずれと記憶された第2の焦点位置と第3の焦点位置とに基づいて焦点合わせを制御する。

請求項（抜粋）：

スキャニング露光装置であって、(a)マスクのパターンの像を結像視野で基板上に投影するための結像系と、(b)前記結像系に対してスキャニング方向に前記マスク及び前記基板を移動させるためのスキャニング機構と、(c)前記基板上に投影される像の焦点を調節するための調節系と、(d)第1の位置に検出領域を備えた第1の検出系とを備えており、前記第1の位置は、前記結像系の前記結像視野の外側に設けられ、前記結像視野から前記スキャニング方向に間隔をあけて設けられており、前記第1の検出系は、前記基板の表面のZ方向の位置を検出し、前記スキャニング露光装置は、また、(e)第2の位置に検出領域を備えた第2の検出系を備えており、前記第2の位置は、前記結像系の前記結像視野の外側に設けられ、前記第1の位置から前記スキャニング方向と交差する方向に間隔をあけて設けられており、前記第2の検出系は、前記基板の表面のZ方向の位置を検出し、前記スキャニング露光装置は、また、(f)第3の位置に検出領域を備えた第3の検出系を備えており、前記第3の位置は、前記結像系の前記結像視野の外側に設けられ、前記結像視野から前記スキャニング方向と交差する方向に間隔をあけて設けられており、また、前記第3の位置は、前記第2の位置から前記スキャニング方向に間隔をあけて設けられており、前記第3の検出系は、前記基板の表面のZ方向の位置を検出し、前記スキャニング露光装置は、また、(g)前記第1の検出系と前記第2の検出系とに連結され、前記第1の検出系によって検出された前記第1のZ位置と目標Z位置との間のずれを計算し、前記第1の検出系による検出のときに、前記第2の検出系によって検出された前記第2のZ位置を記憶する計算器と、(h)前記調節系と前記計算器と前記第3の検出系とに連結されたコントローラとを備えており、前記第1の検出系の前記検出領域に対応する前記基板上の前記領域が、前記スキャニング機構の移動によって前記結像系の結像視野に位置したとき、前記コントローラは、前記計算されたずれと、前記記憶された第2のZ位置と、前記第3の検出系によって検出された前記第3のZ位置と、に基づいて前記調節系を制御することを特徴とするスキャニング露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/207

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/207 H , H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 526 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

面位置設定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-228707 出願人：株式会社ニコン
面位置設定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-067271 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346073 出願人：株式会社ニコン

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