特許

J-GLOBAL ID：200903028006509220

光源装置および投写型表示装置

発明者： 橋爪 俊明
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136553
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330203
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 光源装置において、光源ランプから射出される光を有効に利用することができる技術を提供する。【解決手段】 光源装置は、光軸20ax上に配置された第1および第2の電極を備える光源ランプと、光軸20axを中心とした回転曲面によって構成された凹面を有する凹面鏡とを備える。凹面鏡の凹面24Rは、底部側の領域における第1の凹面CP1と、開口側の領域における第2の凹面CP2とを含む。第1の凹面CP1は、開口側の第1の電極近傍22a1を焦点とする第1種の回転二次曲面形状を有している。第2の凹面CP2は、底部側の第2の電極近傍22a2を焦点とする第2種の回転二次曲面形状を有している。

請求項（抜粋）：

所定の軸上に配置された第1および第2の電極を備える光源ランプと、前記所定の軸を中心とした回転曲面によって構成された凹面を有する凹面鏡と、を備え、前記凹面鏡の凹面は、前記凹面鏡の底部側の領域における第1の凹面と、開口側の領域における第2の凹面と、を含み、前記第1の凹面は、前記凹面鏡の開口側に配置された前記第1の電極の近傍の点を焦点とする第1種の回転二次曲面形状を有し、前記第2の凹面は、前記凹面鏡の底部側に配置された前記第2の電極の近傍の点を焦点とする第2種の回転二次曲面形状を有することを特徴とする光源装置。

IPC (4件)：

G03B 21/14 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 21/00 ,  G03B 21/16

FI (4件)：

G03B 21/14 A ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 21/00 D ,  G03B 21/16

Fターム (7件)：

2H088EA14 ,  2H088EA16 ,  2H088EA68 ,  2H088HA21 ,  2H088HA24 ,  2H088HA28 ,  2H088MA06

引用特許：

出願人引用 (7件)

• 特開平2-259713
  
• 集光リフレクタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-112889   出願人：パイオニア株式会社
• 投写型表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-272699   出願人：キヤノン株式会社
• 自由形状反射器と自由形状レンズを有する投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-092860   出願人：トムソンマルチメデイアソシエテアノニム
• 光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-354470   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド, ソニー株式会社
• 光学装置および多面反射鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-342093   出願人：ウシオ電機株式会社
• 特開平3-266824
  

審査官引用 (1件)

• 特開平2-259713