特許
J-GLOBAL ID:200903028098434531
光学活性モノスルホネート化合物の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高島 一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-139161
公開番号(公開出願番号):特開2008-290981
出願日: 2007年05月25日
公開日(公表日): 2008年12月04日
要約:
【課題】光学活性モノスルホネート化合物の製造方法の提供。【解決手段】ジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化する、モノスルホネート化合物の製造方法。特に、メソ-1,2-ジオール化合物(II)およびスルホニル化剤(III)を、光学活性ビスオキサゾリン化合物(IV)、金属塩(V)および塩基の存在下反応させる、光学活性モノスルホネート化合物(I)の製造方法;【選択図】なし
請求項(抜粋):
プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法。
IPC (7件):
C07C 303/28
, C07C 309/73
, C07C 309/66
, C07C 309/75
, C07D 207/12
, C07D 307/20
, C07D 333/32
FI (7件):
C07C303/28
, C07C309/73
, C07C309/66
, C07C309/75
, C07D207/12
, C07D307/20
, C07D333/32
Fターム (24件):
4C023FA01
, 4C037DA07
, 4C069AA12
, 4C069BA01
, 4C069BC04
, 4H006AA02
, 4H006AC61
, 4H006AC81
, 4H006BA02
, 4H006BA05
, 4H006BA32
, 4H006BA36
, 4H006BA47
, 4H006BA51
, 4H006BA69
, 4H006BB11
, 4H006BB12
, 4H006BB14
, 4H006BB17
, 4H006BB21
, 4H006BB25
, 4H039CA80
, 4H039CD10
, 4H039CD20
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
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