特許

J-GLOBAL ID：200903028108008994

ビス{(アリールフルオロアルキル)アリール}フルオロアルカン誘導体

発明者： 足達 健二 ,  大平 豊 ,  石原 寿美 ,  荒瀬 琢也 ,  森谷 司 ,  堀 義憲
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-273741
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080417
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 種々の有機化合物またはポリマーの中間体であるビス{(アリールフルオロアルキル)アリール}フルオロアルカン誘導体を提供する。【解決手段】 一般式1、例えば式59のビス{(アリールフルオロアルキル)アリール}フルオロアルカン誘導体。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、Xは、【化2】である。Rf1、Rf2、Rf3およびRf4は、同一または異なって、炭素数1〜10個のペルフルオロアルキル基であり、直鎖状または分枝鎖状の鎖状構造でも環状構造でもよい。また、このRf1およびRf2、またはRf3およびRf4は、これらが結合する炭素原子と共に互いに結合して炭素数3〜8個のフルオロシクロアルキルを形成してもよい。R1およびR2は、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、ニトロ基、置換基を有することのあるアミノ基、置換基を有することのある炭素数1〜10個のアルキル基またはカルボキシル基である。また、このR1およびR2は、互いに結合して-CO-O-CO-基を形成してもよい。R3、R4およびR5は、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜10個のアルコキシ基、フェノキシ基、炭素数1〜12個のアシルオキシ基、置換基を有することのある炭素数1〜10個のアルキル基または置換基を有することのある炭素数6〜12個のアリール基である。)で表されるビス{(アリールフルオロアルキル)アリール}フルオロアルカン誘導体。

IPC (15件)：

C07C 43/295 ,  C07C 22/04 ,  C07C 23/18 ,  C07C 39/367 ,  C07C205/26 ,  C07C215/80 ,  C08G 63/682 ,  C08G 64/04 ,  C08G 65/40 ,  C08G 67/00 ,  C08G 69/42 ,  C08G 73/10 ,  C08G 73/18 ,  C08G 73/22 ,  C08G 75/32

FI (15件)：

C07C 43/295 C ,  C07C 22/04 ,  C07C 23/18 ,  C07C 39/367 ,  C07C205/26 ,  C07C215/80 ,  C08G 63/682 ,  C08G 64/04 ,  C08G 65/40 ,  C08G 67/00 ,  C08G 69/42 ,  C08G 73/10 ,  C08G 73/18 ,  C08G 73/22 ,  C08G 75/32

Fターム (57件)：

4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN30 ,  4H006BU46 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H006FE71 ,  4H006FE74 ,  4J001DA01 ,  4J001DB01 ,  4J001DC14 ,  4J001EB44 ,  4J001EB65 ,  4J001EC44 ,  4J001EC45 ,  4J001EC46 ,  4J001EC54 ,  4J001EC66 ,  4J001EC67 ,  4J001EC68 ,  4J001EC75 ,  4J001GA11 ,  4J005AA24 ,  4J029AA02 ,  4J029AA03 ,  4J029AA09 ,  4J029AB07 ,  4J029AC01 ,  4J029BB12B ,  4J029BB15B ,  4J029BG04Y ,  4J029BG08Y ,  4J029CB11B ,  4J029CB12B ,  4J029CG12Y ,  4J029CG15Y ,  4J029HC05B ,  4J030BA34 ,  4J043PA02 ,  4J043PA04 ,  4J043PC136 ,  4J043PC146 ,  4J043QB35 ,  4J043QB39 ,  4J043QB41 ,  4J043RA42 ,  4J043RA57 ,  4J043SA06 ,  4J043TA14 ,  4J043UA132 ,  4J043UA451 ,  4J043UA561 ,  4J043UA591 ,  4J043UB052

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-125686   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感電離放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318195   出願人：富士写真フイルム株式会社
• アリルフェノール系化合物の混合物からなる組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-297066   出願人：本州化学工業株式会社
• コンタクトホール形成用ポジ型ホトレジスト組成物およびコンタクトホールの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-117222   出願人：東京応化工業株式会社
• 特開平4-070659