特許

J-GLOBAL ID：200903028200580459

スパッタリングターゲット,硬質被膜および硬質被膜部材

発明者： 鈴木 幸伸 ,  渡邊 光一 ,  石上 隆
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (2件)： 波多野 久 ,  関口 俊三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-215314
公開番号（公開出願番号）：特開2004-052094
出願日： 2002年07月24日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】均質で耐食性に優れた被膜特性が得られ、成膜効率および再現性に優れ、かつ長寿命のスパッタリングターゲット,硬質被膜および硬質被膜部材を提供する。【解決手段】Crを主成分とし、Al,Si,Ti,Zr,Hf,V,Ta,W,Mo,Bから選択される少なくとも1種類の金属元素を含む原料粉末を脱ガス処理後、焼結して製造されたスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの、200μm四方の組織領域をX線マイクロアナライザーにより加速電圧15kVでCr元素のマッピングを実施したときに、カウント数が600以上であるCrの偏析部1の直径が50μm以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

Crを主成分とし、Al,Si,Ti,Zr,Hf,V,Ta,W,Mo,Bから選択される少なくとも1種類の金属元素を含むスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの、200μm四方の組織領域をX線マイクロアナライザーにより加速電圧15kVでCr元素のマッピングを実施したときに、カウント数が600以上であるCrの偏析部の直径が50μm以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (4件)：

C23C14/34 ,  B22F5/00 ,  C22C27/06 ,  C23C26/00

FI (4件)：

C23C14/34 A ,  B22F5/00 Z ,  C22C27/06 ,  C23C26/00 B

Fターム (27件)：

4K018AA06 ,  4K018AA20 ,  4K018AA22 ,  4K018AA40 ,  4K018BA03 ,  4K018BA09 ,  4K018BA20 ,  4K018BB04 ,  4K018BC10 ,  4K018EA01 ,  4K018EA11 ,  4K018FA01 ,  4K018HA07 ,  4K018KA29 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC01 ,  4K029DC04 ,  4K029DC08 ,  4K029EA05 ,  4K044BA02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA18 ,  4K044BA19 ,  4K044BC06 ,  4K044CA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• Crタ-ゲット材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-000904   出願人：日立金属株式会社
• Cr合金ターゲット材およびその製造方法ならびに皮膜コーティング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-346804   出願人：日立金属株式会社