特許
J-GLOBAL ID：200903028319536288
誘電体多層膜の成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-285978
公開番号（公開出願番号）：特開平10-110259
出願日： 1996年10月07日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：
【要約】【課題】 多種少量生産を容易に、かつ効率的に行うことが可能な誘電体多層膜の成膜装置を提供する。【解決手段】 反応室内で複数のホルダに異なる種類の成膜対象を保持し、それらと成膜材料の供給源との間に、各成膜対象への成膜材料の目標膜厚及び積層パターンに応じて各々個別に開閉制御可能なシャッタを設けることにより、複数種類の成膜を同時に行うことができ、多種類少量生産を容易に、かつ効率的に行うことが可能となる。
請求項（抜粋）：
複数種類の成膜対象を各々保持するべくチャンバ内に設けられた複数のホルダと、前記各ホルダに保持された成膜対象と成膜材料の供給源との間に前記各ホルダ毎に設けられ、各々個別に開閉可能なシャッタと、前記各シャッタを前記各成膜対象への前記成膜材料の目標膜厚に応じて開閉制御する制御手段とを有することを特徴とする誘電体多層膜の成膜装置。
IPC (4件)：
C23C 14/24
, B05D 3/10
, G02B 1/10
, G02B 5/28
C23C 14/24 G
, B05D 3/10 E
, G02B 5/28
, G02B 1/10 Z
