炭素構造体の製造装置及び製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：志賀正武 , 渡邊隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-238305
公開番号（公開出願番号）：特開2008-056546
出願日： 2006年09月01日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：

【課題】基板上に炭素構造体を形成する際に、電極等の汚染と異物等の発生を抑制し、炭素構造体を大面積に良好に形成できる製造装置を提供する。【解決手段】製造装置は、基板を収容する第1空間を形成する第1室と、第1空間に炭素構造体を形成するための原料ガスを供給する原料ガス供給装置と、第1空間とは別の第2空間を形成する第2室と、前記第2空間にプラズマを生成するためのガスを供給するガス供給装置と、第2空間においてプラズマを生成するプラズマ生成装置と、第1空間と第2空間とを接続する開口と、第2空間で生成されたプラズマを開口を介して第1空間に導入するプラズマ導入装置とを備え、第1空間に導入されたプラズマによって、原料ガスを用いて基板上に炭素構造体を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に炭素構造体を形成する炭素構造体の製造装置であって、前記基板を収容する第1空間を形成する第1室と、前記第1空間に前記炭素構造体を形成するための原料ガスを供給する原料ガス供給装置と、前記第1空間とは別の第2空間を形成する第2室と、前記第2空間にプラズマを生成するためのガスを供給するガス供給装置と、前記第2空間においてプラズマを生成するプラズマ生成装置と、前記第1空間と前記第2空間とを接続する開口と、前記第2空間で生成された前記プラズマを前記開口を介して前記第1空間に導入するプラズマ導入装置と、を備え、前記第1空間に導入された前記プラズマによって、前記原料ガスを用いて前記基板上に前記炭素構造体を形成する製造装置。

IPC (4件)：

C01B 31/02 , B01J 35/02 , B01J 37/02 , C23C 16/503

FI (4件)：

C01B31/02 101F , B01J35/02 H , B01J37/02 301P , C23C16/503

Fターム (42件)：

4G146AA11 , 4G146AB06 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BB22 , 4G146BB23 , 4G146BC09 , 4G146BC16 , 4G146BC23 , 4G146BC25 , 4G146BC44 , 4G146DA03 , 4G146DA16 , 4G146DA23 , 4G146DA26 , 4G146DA29 , 4G146DA30 , 4G146DA33 , 4G146DA40 , 4G146DA47 , 4G169AA03 , 4G169BC66B , 4G169BC68B , 4G169BC75B , 4G169CB81 , 4G169CC32 , 4G169DA05 , 4G169EA08 , 4G169FA03 , 4G169FB02 , 4G169FB58 , 4G169FB77 , 4G169FB78 , 4G169FB79 , 4K030AA09 , 4K030BA27 , 4K030CA02 , 4K030CA04 , 4K030CA06 , 4K030EA03 , 4K030FA01 , 4K030KA30

引用特許：

出願人引用 (3件)

炭素膜の製造装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-088813 出願人：ダイヤライトジャパン株式会社
カーボンナノウォールの製造方法と製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-343214 出願人：平松美根男, 堀勝
カーボンナノウォールの製造方法、カーボンナノウォールおよび製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-252698 出願人：平松美根男, 堀勝

審査官引用 (12件)

ダイアモンド状薄膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-022843 出願人：旭硝子株式会社
炭素膜および炭素膜製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-148977 出願人：電気化学工業株式会社
成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-334404 出願人：株式会社アルバック, 独立行政法人産業技術総合研究所

全件表示

前のページに戻る