特許
J-GLOBAL ID：200903028357748825

干渉計

発明者：
大嵜 由美子

大嵜 由美子 について

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鈴木 章義

鈴木 章義 について

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斉藤 謙治

斉藤 謙治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-109999
公開番号（公開出願番号）：特開2002-310612
出願日： 2001年04月09日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】【課題】 非球面の面形状を球面と同じ精度で測定が可能で、かつ種々の面形状の測定に適切に対応できる干渉計及びそれを用いられた光学素子を用いた半導体露光装置を得ること。【解決手段】 干渉を利用して光学素子の面形状を測定する干渉計において、所望の面形状を作成することが出来る面形状が可変の弾性変形ミラーを参照光側に2つ以上又は更に原器を有すること。
請求項（抜粋）：
干渉を利用して光学素子の面形状を測定する干渉計において、所望の面形状を作成することが出来る面形状が可変の弾性変形ミラーを参照光側に2つ以上又は更に原器を有することを特徴とする干渉計。
IPC (5件)：
G01B 9/02 ,  G01J 9/02 ,  G01M 11/00 ,  G02B 5/10 ,  G02B 26/08
FI (5件)：
G01B 9/02 ,  G01J 9/02 ,  G01M 11/00 L ,  G02B 5/10 B ,  G02B 26/08 E
Fターム (20件)：
2F064AA00 ,  2F064AA09 ,  2F064CC04 ,  2F064EE02 ,  2F064FF02 ,  2F064GG11 ,  2F064GG22 ,  2F064GG70 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2G086FF01 ,  2H041AA12 ,  2H041AB12 ,  2H041AB38 ,  2H041AC04 ,  2H041AC08 ,  2H041AZ00 ,  2H041AZ05 ,  2H042DD13 ,  2H042DE09
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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