大気圧プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-092524
公開番号（公開出願番号）：特開2003-289067
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 Heの使用量の少ない大気圧プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】反応管10に第1、2、3電極20、30、40が反応管を周囲して配設されている。第1、3電極は接地電極、第2電極は高圧電極であり第1電極と第2電極で第1段高周波電界発生装置A1を、第2電極と第3電極で第2段高周波電界発生装置A2を形成している。最初にヘリウムガスを反応管内に導入してから高周波電源50をONにしプラズマの生成を開始せしめ、安定したならば、アルゴンガスを反応管内に導入し、アルゴンガスによるプラズマを生成させる。アルゴンガスによるプラズマが安定したならば、ヘリウムガスの導入を停止し、それから、酸素ガスを導入する。プラズマは反応管の出口14から処理台200上に載置された被処理物体Tに向かって噴出する。

請求項（抜粋）：

誘電体で形成されプラズマ原料ガスを導入するガス導入口と反応管内で生成されるプラズマを被処理物体に向けて放出するガス出口を有する反応管と、反応管のガス導入口にプラズマ原料ガスを供給するガス供給装置と、反応管を周囲して配置され高周波電源から高周波電圧が印加される一対の高圧電極と接地電極から成り反応管内に高周波電界を発生せしめる高周波電界発生装置とを具備する大気圧プラズマ処理装置であって、高周波電界発生装置がガス流れにそって直列に複数多段に配置されており、ガス供給装置がヘリウムガスを供給する第1ガス供給装置とヘリウムガス以外の第2希ガスを供給する第2ガス供給装置と酸素ガスを供給する第3ガス供給装置を含み、第1ガス供給装置からヘリウムガスを供給している状態で高周波電界発生装置を作始動してプラズマの生成を開始せしめ、その後第2希ガスの供給を開始し第2希ガスのプラズマが発生したら第1ガス供給装置を停止し、その後第3ガス供給装置による酸素ガスの供給を開始することを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , B08B 7/00 , H01L 21/304 645 , H05H 1/24

FI (4件)：

B08B 7/00 , H01L 21/304 645 C , H05H 1/24 , H01L 21/302 101 E

Fターム (11件)：

3B116AA03 , 3B116BB88 , 3B116BB89 , 3B116BC01 , 5F004BA20 , 5F004BC03 , 5F004BD07 , 5F004CA01 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DA26

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平4-334543
高周波誘導結合アークプラズマの点火方法およびプラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-051286 出願人：富士電機株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-303117 出願人：松下電工株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘

審査官引用 (5件)

特開平4-334543
特開平4-334543
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-303117 出願人：松下電工株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘

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