特許

J-GLOBAL ID：200903028391602406

プラズマ処理装置

発明者： 天野 修臣 ,  住田 賢二 ,  中谷 祥二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-302985
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110649
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】 電極面のVPP分布を均一にして電界強度の均一性を高め、プラズマ処理の均一性を向上できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 高周波電力発生源8から高周波給電線6を介して下部電極3に高周波電力を給電し、下部電極3に載置された被処理物4を処理するプラズマ処理装置において、下部電極3の中心より対称な位置の複数の給電点に高周波給電線6から給電するよう構成する。

請求項（抜粋）：

高周波電力発生源から高周波給電線を介して下部電極に高周波電力を給電し、下部電極の上に載置された被処理物を処理するプラズマ処理装置において、前記下部電極の面上でこの下部電極の中心より対称な位置の複数の給電点に前記高周波給電線から給電したプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (7件)：

C23C 14/34 T ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 C

Fターム (33件)：

4K029CA05 ,  4K029DC27 ,  4K029DC35 ,  4K029EA06 ,  4K029JA01 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K057DA11 ,  4K057DA16 ,  4K057DD03 ,  4K057DD08 ,  4K057DM03 ,  4K057DM17 ,  4K057DM35 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BB13 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004DA04 ,  5F004DA16 ,  5F004DA25 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20 ,  5F103AA08 ,  5F103BB14 ,  5F103BB60 ,  5F103RR10

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平1-298182
  
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-119692   出願人：株式会社東芝
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-265448   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-066177   出願人：シャープ株式会社
• 特開平1-298182