特許
J-GLOBAL ID:200903028451798666

培養方法及び培養装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人はるか国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-145786
公開番号(公開出願番号):特開2008-295382
出願日: 2007年05月31日
公開日(公表日): 2008年12月11日
要約:
【課題】細胞を回収する操作性に優れた培養方法及び培養装置を提供する。【解決手段】チオレートを介してスペーサ物質が結合した電極表面に細胞を接着させて培養する第一工程10と、前記細胞が接着している前記電極表面に、前記スペーサ物質が還元脱離する電位を印加して、前記細胞を前記電極表面から脱離させる第二工程20と、を含む培養方法とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
チオレートを介してスペーサ物質が結合した電極表面に細胞を接着させて培養する第一工程と、 前記細胞が接着している前記電極表面に、前記スペーサ物質が還元脱離する電位を印加して、前記細胞を前記電極表面から脱離させる第二工程と、 を含む ことを特徴とする培養方法。
IPC (2件):
C12M 3/00 ,  C12N 5/06
FI (2件):
C12M3/00 A ,  C12N5/00 E
Fターム (8件):
4B029AA01 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GA08 ,  4B029GB10 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065BD14
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
引用文献:
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