特許

J-GLOBAL ID：200903028467038785

分光法を用いたプレートアッセイ

発明者： 長崎 幸夫 ,  高橋 唯仁 ,  佐倉 武司 ,  網干 史子
出願人/特許権者： 長崎 幸夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-236868
公開番号（公開出願番号）：特開2006-030155
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】 分光法を用いたプレートアッセイ方法を提供する。【解決手段】 (1)被測定化合物を基板表面に固定配置し、被測定化合物に対して特異的に反応して結合を形成する官能基を有する化合物が表面に吸着あるいは結合してなるプラズモン吸収を有する金属粒子を被測定化合物に作用せしめて、基板にエネルギーを照射しそのプラズモン吸収のエネルギーを計測することによって被測定化合物を検出およびまたは定量分析する、および(2)プラズモン吸収を有する金属粒子に被測定化合物が粒子表面に吸着あるいは結合してなる金属粒子を基板表面に固定配置されてなる被測定化合物に対して特異的に反応して結合を形成する官能基とを作用せしめて、基板にエネルギーを照射しそのプラズモン吸収のエネルギーを計測することによって、被測定化合物を検出およびまたは定量分析する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

被測定化合物を基板表面に固定配置し、被測定化合物に対して特異的に反応して結合を形成する官能基を有する化合物が表面に吸着およびまたは結合してなるプラズモン吸収を有する金属粒子を被測定化合物に作用せしめて、基板にエネルギーを照射しそのプラズモン吸収のエネルギーを計測することによって、被測定化合物を検出およびまたは定量分析する方法。

IPC (7件)：

G01N 21/27 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 33/53 ,  G01N 33/543 ,  G01N 33/547 ,  G01N 33/553 ,  C12N 15/09

FI (9件)：

G01N21/27 C ,  C12Q1/68 A ,  G01N33/53 D ,  G01N33/53 M ,  G01N33/543 525U ,  G01N33/543 595 ,  G01N33/547 ,  G01N33/553 ,  C12N15/00 F

Fターム (37件)：

2G043AA01 ,  2G043BA16 ,  2G043CA03 ,  2G043DA01 ,  2G043EA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB28 ,  2G043KA01 ,  2G043LA01 ,  2G059AA01 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD01 ,  2G059EE01 ,  2G059EE03 ,  2G059FF11 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059KK01 ,  4B024AA11 ,  4B024AA19 ,  4B024CA01 ,  4B024CA09 ,  4B024HA14 ,  4B063QA01 ,  4B063QQ21 ,  4B063QQ41 ,  4B063QQ79 ,  4B063QQ96 ,  4B063QR32 ,  4B063QR50 ,  4B063QR55 ,  4B063QR63 ,  4B063QR83 ,  4B063QS39 ,  4B063QX02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-333828   出願人：アフィメトリックス・インコーポレーテッド
• リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-527970   出願人：アフィメトリックス・インコーポレーテッド
• 特許3272365公報