ウエハ保管装置、ウエハ保管方法、ウエハ搬送装置、およびウエハ搬送方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：板垣孝夫 , 森本義弘 , 笹原敏司 , 原田洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-213692
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032869
出願日： 2004年07月22日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】ウエハカセットなどのウエハ保持容器を経て搬送するウエハへの前記ウエハ保持容器でのパーティクルの付着をなくし、配線ショート等のパターン形成不良の発生を防止する。【解決手段】複数のウエハ処理工程間でウエハ4を保管するウエハ保管装置20を、ウエハ4をウエハ表面4aが上下方向に沿う向きに保持するウエハカセット1と、ウエハカセット1内に上下方向の気流を流す気流取り入れ口23a,排気口24aなどからなる気流発生機構と、ウエハカセット1の上流部で前記気流に対してイオン化を行うイオン化機構22とを備えた構造とする。これにより、ウエハカセット1内の雰囲気中のパーティクルや、複数枚保持されたウエハ4の内の他のウエハ4に付着していたパーティクルが、重力作用によってウエハ表面4aに落下すること、および、ウエハ表面4aへ静電吸着することを防止可能である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数のウエハ処理工程間でウエハを保管するためのウエハ保管装置であって、前記ウエハをウエハ表面が上下方向に沿う向きに保持するウエハ保持容器と、前記ウエハ保持容器内に上下方向の気流を流す気流発生機構と、前記ウエハ保持容器の上流部で前記気流に対してイオン化を行うイオン化機構とを備えたウエハ保管装置。

IPC (4件)：

H01L 21/673 , H01L 21/677 , H05F 3/04 , H01L 21/027

FI (5件)：

H01L21/68 T , H01L21/68 B , H05F3/04 C , H01L21/30 503E , H01L21/30 502J

Fターム (34件)：

5F031CA02 , 5F031DA08 , 5F031DA12 , 5F031DA13 , 5F031EA19 , 5F031FA01 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031FA18 , 5F031FA21 , 5F031GA08 , 5F031GA09 , 5F031GA40 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA50 , 5F031JA01 , 5F031JA45 , 5F031JA51 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031NA02 , 5F031NA07 , 5F031NA11 , 5F031NA13 , 5F031NA15 , 5F031PA03 , 5F031PA21 , 5F046CD01 , 5G067AA42 , 5G067DA19 , 5G067DA22 , 5G067EA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-302222 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
被処理体近傍空間の気流の制御方法及び減圧装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-045100 出願人：東京エレクトロン株式会社

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