特許
J-GLOBAL ID：200903028506893574
半導体製造装置のモニタリングシステム及びモニタリング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
前田 弘
, 小山 廣毅
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 手島 勝
, 藤田 篤史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-205667
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047885
出願日： 2002年07月15日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】半導体製造装置の稼働状態の評価を客観的且つ迅速に行なえるようにする。【解決手段】稼働中の半導体製造装置から、複数のプロセスパラメータの値つまり複数のプロセスデータを取得した後、該複数のプロセスデータの少なくとも一部分を用いて多変量解析モデルを作成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
半導体製造装置から、前記半導体製造装置が稼働しているときの複数のプロセスパラメータの値よりなる複数のプロセスデータを取得するデータ取得手段と、
前記複数のプロセスデータの少なくとも一部分を用いて多変量解析モデルを作成するモデル作成手段とを備えていることを特徴とする半導体製造装置のモニタリングシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/02 Z
, H01L21/302 101Z
5F004BA04
, 5F004CA08
, 5F004CB20
