特許
J-GLOBAL ID：200903028524946286
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-274429
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186632
出願日： 1997年10月07日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 露光光(KrFエキシマレーザーのみならずArFエキシマレーザー)での位相シフトマスクとしての光学定数を満たし、且つ露光光での反射率や検査波長での透過率を制御できるハーフトーン型位相シフトマスク及び位相シフトマスク用ブランクを提供することを目的とする。【解決手段】 透光性基板21上に露光光に対して透明領域28と半透明領域27を有するハーフトーン型位相シフトマスク及びマスク用ブランクであって、半透明領域27は単層もしくは2層以上の多層膜からなり、少なくとも1層がジルコニウムシリサイド化合物薄膜で形成されている。さらに、ジルコニウムシリサイド化合物薄膜はジルコニウムシリサイド化合物薄膜の単層膜もしくは多層膜よりなり、ジルコニウムシリサイド化合物薄膜がジルコニウム、珪素、酸素、窒素及びハロゲン元素からなる群から選択された化合物薄膜から形成されている。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に露光光に対して透明領域と半透明領域を有するハーフトーン型位相シフトマスクのマスク用ブランクにおいて、前記半透明領域は単層もしくは2層以上の膜で構成されており、少なくとも1層以上がジルコニウムシリサイド化合物薄膜よりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
