特許
J-GLOBAL ID:200903028539380610

半導体装置、半導体装置の製造方法、リッド部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-057366
公開番号(公開出願番号):特開2002-261214
出願日: 2001年03月01日
公開日(公表日): 2002年09月13日
要約:
【要約】【課題】 半導体チップや接着樹脂の応力緩和を十分確保した上で放熱性を向上させることが可能で生産性を改善する半導体装置、その製造方法、そのリッド部材を提供すること。【解決手段】 半導体チップに対向するリッドの面に金属突起が存在し、この金属突起が半導体チップの裏面に近接するように、半導体チップとリッドとを固定する。リッドの金属突起が存在しない部位と半導体チップとの間に形成される空間には接着樹脂を十分に充填してこれらの密着性を向上する。リッドの金属突起と半導体チップとが近接していることで、これらを低温度溶融金属やAuバンプなどにより接続し、この接続により半導体チップとリッドとの固着性を確保する。また、金属突起に接続され得るように半導体チップの裏面側に接続用金属層を設ける。これらにより、応力緩和、生産性を改善しつつ放熱性を向上する。
請求項(抜粋):
半導体チップと、前記半導体チップの裏面の側に設けられたリッドとを有し、前記半導体チップに対向する前記リッドの面には金属突起が存在し、前記金属突起の先端が前記半導体チップの裏面に近接するように、前記リッドが前記半導体チップに固定されていることを特徴とする半導体装置。
IPC (2件):
H01L 23/40 ,  H01L 23/34
FI (2件):
H01L 23/40 F ,  H01L 23/34 A
Fターム (5件):
5F036AA01 ,  5F036BB05 ,  5F036BC06 ,  5F036BC31 ,  5F036BD01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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