特許
J-GLOBAL ID:200903052080778967
感放射線性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-340981
公開番号(公開出願番号):特開平6-167811
出願日: 1992年11月30日
公開日(公表日): 1994年06月14日
要約:
【要約】【目的】 解像度、パターン形状とその安定性、現像性等に優れたレジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 (イ)感放射線性酸発生剤、(ロ)アルカリ可溶性樹脂中のアルカリ親和性官能基の一部を酸解離性基で保護した樹脂および(ハ)低分子フェノール性化合物中の水酸基の水素原子を、アルコキシアルキル基、環式エーテル基、ビニルオキシアルキル基またはt-アルコキシカルボニルアルキル基で置換した化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
請求項(抜粋):
(イ)感放射線性酸発生剤、(ロ)アルカリ可溶性樹脂中のアルカリ親和性官能基の一部を酸解離性基で保護した樹脂および(ハ)低分子フェノール性化合物中の水酸基の水素原子を、アルコキシアルキル基、環式エーテル基、ビニルオキシアルキル基またはt-アルコキシカルボニルアルキル基で置換した化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (15件)
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特開平4-158363
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特開平4-215662
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特開平2-177031
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特開平2-181150
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特開平2-181151
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ポジ型感光性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-299093
出願人:富士写真フイルム株式会社
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パターン形成材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-275149
出願人:三菱電機株式会社
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短波長紫外線に感光するポジ型フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-185985
出願人:ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-321540
出願人:日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-060986
出願人:日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-218703
出願人:日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-300372
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-300373
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-300374
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-303265
出願人:日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
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