試料基板と反射板を用いてX線が多重全反射して収束する構成にした全反射蛍光X線分析法および該分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮本晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-001009
公開番号（公開出願番号）：特開2003-202306
出願日： 2002年01月08日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：

【要約】【課題】検出限界を改善した全反射蛍光X線分析方法およびそのための装置の提供【解決手段】一次X線発生源からのX線X-rbと試料基板S.Pとのなす角度(θ)を調節する該X線照射角度調整器Z-Sを備えた回転ステージR.S、および該回転ステージ上部に取付けられた該試料基板取付載置台S.P.Sおよび試料基板と協働して多重全反射して収束しX線強度を増大させてグランシング角で照射可能な角の1 ゚未満で至適角度に調整可能で、かつ、収束したX線が通過し該被分析部を照射する間隔を持って配置した反射板Reを備えた一次X線強度増大手段を含むことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

請求項（抜粋）：

一次X線反射特性を有する試料基板、該試料基板に該試料基板の被分析部に一次X線源よりのX線を該試料基板と協働して多重全反射して収束しX線強度を増大させてグランシング角で照射可能とする角である1 ゚未満で至適角度に調整可能で、かつ、収束したX線が通過し該被分析部を照射する間隔を持って配置した一次X線反射板を含む構成とした全反射型蛍光X線分析装置を用いたことを特徴とする全反射蛍光X線分析法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 , G21K 1/06 , G21K 5/02

FI (3件)：

G01N 23/223 , G21K 1/06 M , G21K 5/02 X

Fターム (11件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001GA13 , 2G001JA01 , 2G001KA01 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001NA21 , 2G001QA01 , 2G001SA29

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平3-188361
全反射蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-041870 出願人：日本電気株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

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