特許
J-GLOBAL ID：200903028779629470
重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-005879
公開番号（公開出願番号）：特開2007-186599
出願日： 2006年01月13日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【課題】硬化速度が極めて速く、かつエネルギー線により、鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、かつ基板との密着性に非常に優れた、ネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法を提供する。【解決手段】下記一般式で表される光ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性化合物、およびアルカリ可溶性樹脂を含んでなる重合性組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される光ラジカル重合開始剤(A)、ラジカル重合性化合物(B)、およびアルカリ可溶性樹脂(C)を含んでなる重合性組成物。
一般式(1)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (45件)：
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AA13
, 2H025AA14
, 2H025AB14
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025CA03
, 2H025CA07
, 2H025CA22
, 2H025CA31
, 2H025CA41
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025FA17
, 4J011AA06
, 4J011PA69
, 4J011PB19
, 4J011QA02
, 4J011QA03
, 4J011QA05
, 4J011QA06
, 4J011QA07
, 4J011QA08
, 4J011QA09
, 4J011QA12
, 4J011QA13
, 4J011QA15
, 4J011QA17
, 4J011QA18
, 4J011QA19
, 4J011QA20
, 4J011QA22
, 4J011QA23
, 4J011QA24
, 4J011QA25
, 4J011QA27
, 4J011SA61
, 4J011UA01
