特許
J-GLOBAL ID:200903028798382311
複合位相差板およびその製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-098844
公開番号(公開出願番号):特開2009-276761
出願日: 2009年04月15日
公開日(公表日): 2009年11月26日
要約:
【課題】 複合位相差板について、一層の薄肉化が求められている。【解決手段】 重合性基を有する液晶化合物を重合して得られる位相差板(1)と、有機修飾粘土複合体およびバインダー樹脂を含有する位相差板(2)とを含む複合位相差板、並びに下記(i)〜(v)の工程を有することを特徴とする複合位相差板の製造方法。(i)重合性基を有する液晶化合物と有機溶媒とを混合する工程(ii)工程(i)で得られた溶液から塗工膜を得る工程(iii)工程(ii)で得られた塗工膜に含まれる重合性基を有する液晶化合物を重合させて、位相差板(1)を得る工程(iv)有機修飾粘土複合体とバインダー樹脂と有機溶媒とを混合する工程(v)工程(iv)で得られた塗工液を、得られた位相差板(1)に塗布して、複合位相差板を得る工程【選択図】 図1
請求項(抜粋):
重合性基を有する液晶化合物を重合して得られる位相差板(1)と、有機修飾粘土複合体およびバインダー樹脂を含有する位相差板(2)とを含む複合位相差板。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (37件):
2H149AA02
, 2H149AB23
, 2H149BA02
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DA22
, 2H149DA39
, 2H149DA40
, 2H149DB13
, 2H149DB26
, 2H149EA02
, 2H149EA06
, 2H149EA26
, 2H149EA27
, 2H149FA03Z
, 2H149FA10Z
, 2H149FA15Z
, 2H149FA24Y
, 2H149FA41Y
, 2H149FA42Z
, 2H149FA52Y
, 2H149FA58Y
, 2H149FC08
, 2H149FD05
, 2H149FD25
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FB02
, 2H191FB05
, 2H191FC32
, 2H191GA08
, 2H191GA23
, 2H191LA11
, 2H191PA24
, 2H191PA84
引用特許:
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