特許
J-GLOBAL ID：200903028799659295
ポジ型フォトレジスト
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-179554
公開番号（公開出願番号）：特開平8-050356
出願日： 1995年06月22日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【目的】熱的後処理を必要とせず、長期の保存寿命をもちおよび良好な解像度のレリーフ構造を与える、高感光性のポジ型フォトレジスト材料を提供する。【構成】a)酸-活性(acid labile)α-アルコキシアルキルエステル基を含むホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも1種;b)カルボキシル基の含量が0.40ないし5.50mol/kgであるカルボキシル含有コポリマーの少なくとも1種;c)化学線への露光において酸を形成する化合物の少なくとも1種およびd)有機溶媒からなる水性アルカリ媒体で現像可能なポジ型フォトレジスト組成物およびこのフォトレジスト組成物を使用するレリーフ構造の製造方法。
請求項（抜粋）：
a)酸-活性(acid labile)α-アルコキシアルキルエステル基を含むホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも1種;b)カルボキシル基の含量が0.40ないし5.50mol/kgであるカルボキシル含有コポリマーの少なくとも1種;c)化学線への露光において酸を形成する化合物の少なくとも1種およびd)有機溶媒;からなる水性アルカリ媒体で現像可能なポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/039 501
, C08K 5/02
, C08K 5/22 LHX
, C08K 5/36 LHY
, C08L 33/02 LJF
, C08L 33/14
, C08L 35/02 LJD
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
