特許
J-GLOBAL ID：200903028825342238

超純水製造装置

発明者：
小泉 求

小泉 求 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189935
公開番号（公開出願番号）：特開2003-001259
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：
【要約】【課題】 電気脱イオン装置の印加電圧が低くても電流値が高く、シリカを高度に除去することができる超純水製造装置を提供する。【解決手段】 超純水製造装置は、前処理装置としての逆浸透膜分離装置(RO装置)1,2と、このRO装置2からの比抵抗1MΩ・cm以上の処理水を脱イオン処理する電気脱イオン装置10とを備えている。濃縮室15から流出する濃縮水は、その一部が排出され、残部がポンプを介して濃縮室15及び電極室(陽極室17、陰極室18)に供給される。RO装置1の透過水に電解質としてNa2SO4又はNaOHを添加し、この電解質添加水を電気脱イオン装置10の循環濃縮水に対し添加する。これにより、濃縮室15、陽極室17、及び陰極室18に導入される濃縮水の導電率が0.5mS/m以上とされる。
請求項（抜粋）：
原水を前処理する前処理手段と、該前処理手段で処理された水を電気脱イオン処理する電気脱イオン装置とを有する超純水製造装置であって、該電気脱イオン装置は、陽極を有する陽極室と、陰極を有する陰極室と、これらの陽極室と陰極室との間に複数のアニオン交換膜及びカチオン交換膜を交互に配列することにより交互に形成された濃縮室及び脱塩室と、該脱塩室に充填されたイオン交換体と、該陽極室及び陰極室にそれぞれ電極水を通水する手段と、該濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と、該脱塩室に被処理水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有する電気脱イオン装置である超純水製造装置において、前記前処理手段は、原水を処理して比抵抗を1MΩ・cm以上の被処理水とするものであり、前記濃縮室に供給される濃縮水及び前記電極室に供給される電極水の導電率を0.5mS/m以上にする導電率調節手段と、を備えたことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 1/469 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44
FI (4件)：
B01D 61/48 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/46 103
Fターム (50件)：
4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006JA30Z ,  4D006JA41Z ,  4D006JA43Z ,  4D006JA44Z ,  4D006JA57Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA03 ,  4D006KA53 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KB14 ,  4D006KB17 ,  4D006KD17 ,  4D006KD30 ,  4D006KE19R ,  4D006MA13 ,  4D006MA14 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D006PC11 ,  4D006PC31 ,  4D006PC42 ,  4D025AA04 ,  4D025AB17 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BA22 ,  4D025BA25 ,  4D025BB04 ,  4D025CA04 ,  4D025CA10 ,  4D025DA01 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D061DA03 ,  4D061DB18 ,  4D061EA09 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061FA03 ,  4D061FA09 ,  4D061GC06
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)

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