基板処理装置及び半導体装置の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石戸久子 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-064772
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264218
出願日： 2002年03月11日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】基板搬送を行うアームによって、処理室を汚染することがない基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板に対してそれぞれ異なる処理を行う複数の処理室12,14を有する基板処理装置において、基板10を保持するアーム20,22を各処理室12,14に対応して設け、各処理室12,14に基板を挿入する際に、各処理室12,14に対応したアーム20,22に交換する交換ステージ24を設ける。

請求項（抜粋）：

基板に対してそれぞれ異なる処理を行う複数の処理室と、該各処理室に連通する搬送室内に設けられ、各処理室間で基板を搬送する搬送ロボットと、該搬送ロボットに取付けられ、基板搬送時に基板を保持するアームとを有する基板処理装置において、前記アームは、前記複数の処理室のいずれかに対応して交換可能に複数備えられると共に、前記アームを交換するアーム交換手段が備えられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , C23C 16/44 , H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 C , C23C 16/44 F , H01L 21/205

Fターム (19件)：

4K030GA12 , 4K030KA45 , 5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA40 , 5F031GA50 , 5F031MA04 , 5F031MA28 , 5F031NA01 , 5F031NA05 , 5F031PA25 , 5F045BB14 , 5F045DQ17 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328684 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-069917
特開平4-069917

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