デバイス製造における異物特定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-047892
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220032
出願日： 1995年02月14日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】高度の判断技術を必要とすることなく、試料中の異物の種類とその発生源を特定することができるようにする。【構成】特性情報索引部2にはデバイス製造環境に存在する複数の既知物質の種類とその発生源に関する情報が記憶保持され、EPMAデータ格納部3には複数の既知物質の特性X線スペクトル分析データが記憶保持され、IRデータ格納部4には複数の既知物質のIRスペクトル分析データが記憶保持され、顕微鏡データ格納部5には複数の既知物質の顕微鏡データが記憶保持され、SEMデータ格納部6には複数の既知物質のSEMデータが記憶保持されている。そして、デバイス製造工程中に発生した異物を分析して得られた所定の異物物性情報が入力部7から入力されると、演算部9が所定の演算を行い、異物の種類とその発生源に関する情報を出力部10から出力する。

請求項（抜粋）：

デバイス製造環境に存在する複数の既知物質の各々の少なくとも特性スペクトル分析データを含む複数の既知物性情報を記憶保持するステップと、デバイス製造工程中に発生した異物を分析して所定の異物物性情報を得るステップと、前記異物物性情報と記憶保持された前記複数の既知物性情報とを照合してその各相違量に関するデータを求めるステップと、前記相違量に関するデータに基づいて前記複数の既知物性情報のうち前記異物物性情報と少なくとも最も相違量の小さい既知物性情報に対応した物質の種類に関する情報を出力するステップと、を具備することを特徴とするデバイス製造における異物特定方法。

IPC (2件)：

G01N 23/225 , G01N 23/223

FI (2件)：

G01N 23/225 , G01N 23/223

引用特許：

審査官引用 (5件)

表面分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平2-414479 出願人：株式会社島津製作所
特開平3-225265
電子プローブ微小分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-049239 出願人：松下電子工業株式会社

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