特許
J-GLOBAL ID：200903029006249926

蛍光X線分析法

発明者：
平田 浩一

平田 浩一 について

, 
小林 慶規

小林 慶規 について

, 
小島 勇夫

小島 勇夫 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-297541
公開番号（公開出願番号）：特開2007-107952
出願日： 2005年10月12日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：
【課題】測定目的元素からの蛍光X線強度の大きな変動を解決するとともに、これまで困難であった、高精度な、イオン注入量評価、薄膜中の元素濃度評価、試料表面の汚染量評価をインラインで行なうことを可能とする。【解決手段】本発明では、結晶部の結晶構造と入射X線の入射方位を制御することで、この散乱または回折X線の変化を抑える。また、ゴニオメータの位置再現性の誤差を考慮し、結晶部で散乱されるX線強度の入射X線方位依存性が最少になる方向からX線を入射する方法で分析することにより、実際上再現性を高めた蛍光X線強度測定を行うことを可能とした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料が結晶性を有しており、該試料にX線を入射し、放出される蛍光を分析することにより、該試料の内部及び表面上に存在する元素の種類及び量を分析する蛍光X線分析法であって、該試料に入射するX線の入射方位を制御し、該試料中の結晶性を有する部分からの散乱又は回折に起因するX線強度を安定化させることを特徴とする蛍光X線分析法。
IPC (2件)：
G01N 23/223 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N23/223 ,  H01L21/66 L
Fターム (11件)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001JA08 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4M106AA01 ,  4M106CA29 ,  4M106DH34
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 蛍光X線分析装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-287837   出願人：理学電機工業株式会社
審査官引用 (1件)
  • 蛍光X線の分析方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-318527   出願人：理学電機工業株式会社

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