特許
J-GLOBAL ID：200903029149121378

ガスの分光分析方法および分光分析装置

発明者：
鈴木 克昌

鈴木 克昌 について

, 
佐藤 貴之

佐藤 貴之 について


出願人/特許権者：
日本酸素株式会社

日本酸素株式会社 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-107150
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298095
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：
【要約】【課題】周波数変調された半導体レーザ光を被測定ガスに透過させて光吸収強度の二次微分スペクトルを測定することによって被測定ガス中の被測定成分の濃度を測定する方法において、被測定ガスを含む測定ラインで得られる二次微分吸収スペクトルから、被測定ガスを含まないキャンセルラインで得られる二次微分吸収スペクトルを差し引く方法ではキャンセルできないフリンジノイズを低減できるようにして、測定精度を向上させる。【解決手段】サンプルセル4内に被測定成分を除去した精製被測定ガスを導入し、これに半導体レーザ1からのレーザ光を透過させてバックグラウンドスペクトル得る。サンプルセル4内に被測定ガスを導入し、これにレーザ光を透過させて二次微分スペクトルを得る。二次微分スペクトルからバックグラウンドスペクトルを差し引いて得られる補正二次微分スペクトルを用いて被測定成分の測定を行う。
請求項（抜粋）：
周波数変調された半導体レーザ光を被測定ガスに透過させて得られる光吸収強度の二次微分スペクトルを用いて前記被測定ガス中の被測定成分の濃度を測定するガスの分光分析方法において、前記被測定ガスから被測定成分を除去した精製被測定ガスにレーザ光を透過させてバックグラウンドスペクトルを得、前記二次微分スペクトルから前記バックグラウンドスペクトルを差し引いて得られる補正二次微分スペクトルを用いて測定を行うことを特徴とするガスの分光分析方法。
IPC (2件)：
G01N 21/35 ,  G01J 3/42
FI (2件)：
G01N 21/35 Z ,  G01J 3/42 U
Fターム (13件)：
2G020AA03 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC09 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG06 ,  2G059HH01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM04 ,  2G059MM10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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