特許

J-GLOBAL ID：200903029149143444

非水系レジスト剥離液管理装置及び非水系レジスト剥離液管理方法

発明者： 中川 俊元 ,  片桐 優子 ,  小川 修 ,  森田 悟 ,  菊川 誠
出願人/特許権者： 株式会社平間理化研究所 ,  長瀬産業株式会社 ,  ナガセシィエムエステクノロジー株式会社
代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 (外2名) ,  長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-191697
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005386
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】 レジスト剥離液に対してMEA濃度と劣化成分濃度とが所定の濃度となるように自動制御し、レジスト剥離処理槽の液補給に対して適切な管理を行い、レジスト剥離性能を常時一定化すること、及びレジスト剥離液の使用液量を削減し、操業停止時間を短縮して総合的な製造コストを低減すること。【解決手段】 調整槽(1)内の非水系レジスト剥離液に由来する劣化成分の濃度を測定する劣化成分濃度測定手段(16)と、非水系レジスト剥離原液、非水系レジスト剥離再生液、又は予め調合された非水系レジスト剥離新液の少なくとも一つを調整槽に供給する液供給手段(24、25、26、27)と、測定された劣化成分の濃度に基づいて、調整槽に供給される液量を制御する液供給量制御手段(31)とを備える。

請求項（抜粋）：

レジスト剥離設備で使用される非水系レジスト剥離液を調整槽内で管理する非水系レジスト剥離液管理装置であって、前記調整槽内の非水系レジスト剥離液に由来する劣化成分の濃度を測定する劣化成分濃度測定手段と、非水系レジスト剥離原液、非水系レジスト剥離再生液、又は予め調合された非水系レジスト剥離新液の少なくとも一つを前記調整槽に供給する液供給手段と、前記測定された劣化成分の濃度に基づいて、前記調整槽に供給される液量を制御する液供給量制御手段とを備えることを特徴とする非水系レジスト剥離液管理装置。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (6件)：

2H096AA25 ,  2H096LA03 ,  2H096LA30 ,  5F046MA02 ,  5F046MA03 ,  5F046MA10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レジスト剥離液補充液及びその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-308287   出願人：ナガセ電子化学株式会社
• レジスト剥離液管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-333249   出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社
• 基板表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-146210   出願人：長瀬産業株式会社, 株式会社平間理化研究所, エム・セテック株式会社