特許

J-GLOBAL ID：200903029153925970

光学系、及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法

発明者： 原 真一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-070036
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281653
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】EUV露光装置に用いるミラー光学系は、EUV光に対する反射率が70%程度であるため、EUV光を吸収してしまい、大きく変形してしまう。【解決手段】そこで、本発明の光学系は、内部空間に少なくとも1つの光学素子を有し、光源からの光を所定面に導く光学系であって、前記少なくとも1つの光学素子の表面形状を測定する測定系と、前記測定系の測定結果に基づいて、前記少なくとも1つの光学素子の温度制御を行う温度制御部とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

内部空間に少なくとも1つの光学素子を有し、光源からの光を所定面に導く光学系であって、 前記少なくとも1つの光学素子の表面形状を測定する測定系と、 前記測定系の測定結果に基づいて、前記少なくとも1つの光学素子の温度制御を行う温度制御部とを有することを特徴とする光学系。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G02B17/00 ,  G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 516E ,  G02B17/00 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 517

Fターム (13件)：

2H087KA21 ,  2H087NA08 ,  2H087TA01 ,  2H087TA02 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DA26 ,  5F046DB05 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 反射鏡の熱変形の制御システム及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-176174   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置及びデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-090302   出願人：キヤノン株式会社