特許
J-GLOBAL ID:200903029275405730

光吸収性反射防止体とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-142644
公開番号(公開出願番号):特開平10-087348
出願日: 1997年05月30日
公開日(公表日): 1998年04月07日
要約:
【要約】【課題】単純な層構成で、充分な反射防止特性を発現する光吸収性反射防止体とその製造方法の提供。【解決手段】幾何学的膜厚5〜25nmでO/Ti(原子数比)=0.11〜0.33の酸窒化チタン膜と、幾何学的膜厚70〜130nmでシリカを主成分とする膜とが形成された光吸収性反射防止体。
請求項(抜粋):
基体上に、基体側から、幾何学的膜厚が5〜25nmの酸窒化チタン膜と、幾何学的膜厚が70〜130nmのシリカを主成分とする膜とがこの順に形成され、シリカを主成分とする膜側からの入射光の反射を低減させる光吸収性反射防止体であって、前記酸窒化チタンにおける酸素のチタンに対する原子数比が0.11〜0.33であることを特徴とする光吸収性反射防止体。
IPC (5件):
C03C 17/34 ,  G02B 1/11 ,  H01J 9/20 ,  H01J 29/88 ,  H01J 29/89
FI (5件):
C03C 17/34 Z ,  H01J 9/20 A ,  H01J 29/88 ,  H01J 29/89 ,  G02B 1/10 A
引用特許:
審査官引用 (2件)

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