特許
J-GLOBAL ID：200903029304664111

マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法

発明者：
山華 雅司

山華 雅司 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-316920
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124193
出願日： 2001年10月15日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：
【要約】【課題】 容器内の圧力を低くしたり、処理ガスの種類、容器内の圧力および投入電力を変更したりしても均一なプラズマを容器内に発生することが可能なマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 被処理部材が配置される容器と、前記容器内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、前記容器の一面に取り付けられた誘電体窓と、前記誘電体窓を含む前記容器の一面外方に配置された導波管と、前記導波管にマイクロ波を導入するためのマイクロ波電源とを具備し、前記誘電体窓は、前記容器の一面に設けられた複数の開口部にそれぞれ取り付けられ、かつマイクロ波放射部は、前記容器の一面付近に位置する前記導波管の部位に複数の前記誘電体窓に対応して開口されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理部材が配置される容器と、前記容器内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、前記容器の一面に取り付けられた誘電体窓と、前記誘電体窓を含む前記容器の一面外方に配置された導波管と、前記導波管にマイクロ波を導入するためのマイクロ波電源とを具備し、前記誘電体窓は、前記容器の一面に設けられた複数の開口部にそれぞれ取り付けられ、かつマイクロ波放射部は、前記容器の一面付近に位置する前記導波管の部位に複数の前記誘電体窓に対応して開口されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ,  H01L 21/027 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 H ,  H01L 21/30 572 A
Fターム (9件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BD01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00 ,  5F046MA12
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM