半導体基板用アルカリ性洗浄液

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川上宣男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-087782
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250461
出願日： 1995年03月09日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】パーティクル除去能力に優れ、且つ金属不純物の基板への吸着防止能力を持った、半導体基板用アルカリ性洗浄液を提供すること。【構成】アルカリ性成分、過酸化水素及びふっ化アンモニウムを有効成分として含有する水溶液より成る半体基板用アルカリ性洗浄液。

請求項（抜粋）：

ふっ化アンモニウムを有効成分として含有することを特徴とする半導体基板用アルカリ性洗浄液。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , C11D 7/10

FI (2件)：

H01L 21/304 341 L , C11D 7/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

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