特許
J-GLOBAL ID：200903029406915798
欠陥検査装置
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-336866
公開番号（公開出願番号）：特開平11-237226
出願日： 1998年11月27日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：
【要約】【課題】本発明は、デバイスの特性に影響を与える欠陥を定量的に評価でき、加工プロセス上の欠陥要因を客観的に容易に特定できる欠陥検査装置の提供を目的とするものである。【解決手段】本発明では上記課題を解決するため、検体の表面及び/又は検体に内在する欠陥を検出する欠陥検査装置で、検出手段によって得られた深さ情報及び位置情報に基づいて、検体の中心位置からの距離と前記欠陥の存在する深さを座標軸としたグラフに、欠陥の分布を表示する表示装置を備えた欠陥検査装置を提供する。
請求項（抜粋）：
被検体に光を照射することによって得られる該検体からの光情報に基づいて、前記検体の表面及び/又は検体に内在する欠陥を検出する欠陥検査装置において、前記光情報に基づいて前記欠陥の存在する深さ、及び前記欠陥の位置を検出する検出手段と、該検出手段によって得られた深さ情報及び位置情報に基づいて、前記検体の中心位置からの距離と前記欠陥の存在する深さを座標軸としたグラフに、前記欠陥の分布を表示する表示装置を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/30 D
, G01N 21/88 645 A
