特許

J-GLOBAL ID：200903029443510900

溶融シリカ粒子の製造方法

発明者： 大原 雅和 ,  永野 尊凡 ,  青木 博男 ,  浦川 孝雄
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-307695
公開番号（公開出願番号）：特開2002-114510
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】【課題】 比較的微細な溶融シリカ粒子を効率よく且つ安定して製造することが可能な溶融シリカ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 ケイ素化合物をガス状で供給する供給口の外周に水素及び/又は炭化水素並びに酸素をそれぞれ供給して外周炎を形成することにより、該ケイ素化合物をシリカ微粒子に変換し、更に、上記外周炎中で該シリカ微粒子を相互に融着せしめて平均粒子径を0.05〜5μmに成長させ、次いで、溶融したシリカ粒子を分散した状態で冷却する。

請求項（抜粋）：

ケイ素化合物をガス状で供給する供給口の外周に水素及び/又は炭化水素並びに酸素をそれぞれ供給して外周炎を形成することにより、該ケイ素化合物をシリカ微粒子に変換し、更に、上記外周炎中で該シリカ微粒子を相互に融着せしめて平均粒子径を0.05〜5μmに成長させ、次いで、溶融したシリカ粒子を分散した状態で冷却することを特徴とする溶融シリカ粒子の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/18 ,  C03B 20/00

FI (2件)：

C01B 33/18 Z ,  C03B 20/00 D

Fターム (17件)：

4G014AH12 ,  4G014AH16 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD03 ,  4G072DD05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ01 ,  4G072JJ03 ,  4G072JJ47 ,  4G072LL01 ,  4G072LL15 ,  4G072MM38 ,  4G072TT01 ,  4G072UU01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 微細シリカの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-271722   出願人：信越化学工業株式会社
• 静電荷像現像剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-058285   出願人：信越化学工業株式会社
• 不純物酸素および一酸化炭素のうちの少なくとも1種について実質的に精製された流れの製造方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-170361   出願人：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• 低温空気分離によるアルゴン製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-161994   出願人：エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

• The effect of precursor in flame synthesis of SiO2