特許
J-GLOBAL ID：200903029460537340
リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-404377
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015985
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ投影装置の精度を損う振動の主な原因である、マスクまたは基板テーブルを駆動する際の反力を吸収するための、容易に多自由度へ拡張でき、種々の異なる駆動機構に使えるような平衡システムを提供すること。【解決手段】 この投影装置のベース上の案内面4上に無摩擦軸受3によって平衡フレーム2をX、Y方向の並進およびZ方向に平行な軸周りの回転が自由に支持する。H形駆動装置である、基板テーブルWTの位置決めシステム10をこの平衡フレーム上に配置し、それに基板テーブルの位置決め動作の反力が直接、間接伝達されるようにする。この平衡フレームの質量は、テーブルと位置決めシステムの組合わせた質量より遙かに大きいので位置決めの反力を容易に吸収する。基板テーブルが平衡フレームの中央開口の中にあるので、両者の質量中心の高さの差を縮めることができる。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置であって:放射線の投影ビーム(PB)を供給するための照明システム(IL);所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターニングすることが出来るパターニング手段(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT);基板(W)を保持するるための第2物体テーブル(WT);このパターン化したビームをこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);および上記物体テーブルの少なくとも一つを3を超える自由度で位置決めできる平衡位置決めシステム(10);を含み、この位置決めシステムが:少なくとも一つの平衡質量(2);上記平衡質量を可動に支持するための軸受手段(3);上記物体テーブルを第1ないし第3自由度で位置決めするための粗位置決め手段で、上記3自由度が第1および第2方向(X、Y)の並進並びに第3方向(Z)周りの回転(Rz)であり、上記第1、第2および第3方向が実質的に相互に直交する手段;および上記物体テーブルを上記第1、第2および第3と実質的に直交する少なくとも第4自由度(Z)で位置決めするための微細位置決め手段で、上記粗および微細位置決め手段は、上記粗および微細位置決め手段からの反力を上記平衡質量へ伝えるように配置してある手段を含み:上記平衡質量を上記軸受手段によって少なくとも上記第4自由度で実質的に自由に動けるように支持することを特徴とする投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G12B 5/00
G03F 7/20 521
, G12B 5/00 T
, H01L 21/30 503 B
, H01L 21/30 516 B
2F078CA01
, 2F078CA08
, 2F078CB02
, 2F078CB05
, 2F078CB09
, 2F078CB12
, 2F078CC07
, 5F046AA23
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC19
