特許
J-GLOBAL ID：200903029510294738
露光方法、露光装置、及びデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-363989
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186149
出願日： 1997年12月17日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 多層的な露光にあたって、層間における重ね合わせ精度を向上する。【解決手段】 マスクRに形成されたパターンを感応基板Wの複数の区画領域に順次転写するにあたって、感応基板W上の所定の区画領域を露光する際に、その時点の感応基板Wの熱膨張を考慮して直前の区画領域の露光位置から所定の区画領域の露光位置への感応基板Wの移動を行い、この後に所定の区画領域に対しマスクパターンを転写する。これにより、露光後の冷却状態において基板上でショット領域が所望の間隔で並ぶ露光が行われる。この結果、次層の重ね合わせ精度の向上を図ることができるるとともに、前層と重ね合わせ精度の良い露光ができる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを感応基板の複数の区画領域に順次転写する露光方法であって、前記感応基板上の所定の区画領域を露光する際に、その時点の前記感応基板の熱膨張を考慮して直前の区画領域の露光位置から前記所定の区画領域の露光位置への前記感応基板の移動を行う第1工程と;前記所定の区画領域に対し前記マスクパターンを転写する第2工程とを含む露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 B
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
