真空装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：木下茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-224332
公開番号（公開出願番号）：特開2002-039061
出願日： 2000年07月25日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】大きな排気速度のポンプを用いることなく所望の排気速度を得ることができると共に、配管の内径を小さくすることができ、配管を加熱する加熱手段の消費電力を抑制することができる真空装置を提供する。【解決手段】ガス導入口とガス排出口を備える真空容器10、11、12と、前記真空容器内部を減圧に保つための第1の真空ポンプ1、2、3と、前記第1の真空ポンプに接続された第2の真空ポンプ4、5、6を備える真空装置において、前記真空容器と第1の真空ポンプとの間の配管A2中の気体の流れが、分子流あるいは分子流と粘性流の間の中間流となり、前記第1の真空ポンプ1、2、3と第2の真空ポンプ4、5、6との間の配管A1中の気体の流れが、粘性流となるように構成されている。

請求項（抜粋）：

ガス導入口とガス排出口を備える真空容器と、前記真空容器内部を減圧に保つための第1の真空ポンプと、前記第1の真空ポンプに接続された第2の真空ポンプを備える真空装置において、前記真空容器と第1の真空ポンプとの間の配管中の気体の流れが、分子流あるいは分子流と粘性流の間の中間流となり、前記第1の真空ポンプと第2の真空ポンプとの間の配管中の気体の流れが、粘性流となるように構成されていることを特徴する真空装置。

IPC (2件)：

F04B 37/16 , F04C 18/16

FI (3件)：

F04B 37/16 A , F04B 37/16 D , F04C 18/16 C

Fターム (10件)：

3H076AA16 , 3H076AA21 , 3H076AA37 , 3H076BB21 , 3H076BB38 , 3H076BB43 , 3H076CC07 , 3H076CC94 , 3H076CC95 , 3H076CC99

引用特許：

審査官引用 (3件)

処理装置の真空排気システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-284391 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
特開平4-031685
スクリュ-流体機械及びねじ歯車
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-201296 出願人：大亜真空株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

真空技術入門, 19970425, 初版7刷, 18-23

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