特許
J-GLOBAL ID:200903029555112860
バンプ電極形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-043430
公開番号(公開出願番号):特開2000-243772
出願日: 1999年02月22日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 微細なパターンの基板、半導体素子等へ、導電性ボールを転写してバンプ形成する方法において、フラックス等の仮固定剤を用いず歩留まり良く安定して一括転写、バンプ電極形成方法を提供する。【解決手段】 シリコンテンプレートの、半導体素子または回路基板の電極パターンに対応する位置に、凹部を高精度に形成し、導電性ボールを配列させて置き、位置合わせして、電極パッドと導電性ボールを接触させ、半導体素子または回路基板の面方向に微動振動を付与するので、複数のバンプを一括形成でき、また、導電性ボールは上述凹部に振り込むのみで、電極パッドのピッチが狭くとも高精度に簡単に配置できる。なお、上述凹部に貫通孔を形成し、裏面から真空吸引する場合は、一層効果的である。また、フラックス等の仮固定剤を必要とせず、バンプ形成後に洗浄工程が不要となり、コストも低くなる。
請求項(抜粋):
半導体素子または回路基板の電極パッド上に、導電性ボールを用いてバンプ電極を形成する方法において、半導体素子または回路基板の電極パターンと対応する位置に凹部が形成されたシリコンテンプレートの前記凹部に、予め導電性ボールを配列させて置き、半導体素子または回路基板の電極パッドをシリコンテンプレート上の導電性ボールと位置合わせし、電極パッドと導電性ボールとを接触させ、半導体素子または回路基板の面にほぼ水平な方向に、微動振動を付与することを特徴とする、バンプ電極形成方法。
IPC (2件):
H01L 21/60
, H01L 21/60 311
FI (2件):
H01L 21/92 604 H
, H01L 21/60 311 S
Fターム (2件):
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平4-263434
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特開昭61-018139
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バンプ形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-197086
出願人:株式会社リコー
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