特許
J-GLOBAL ID：200903029604231470
遮蔽パネルカバーを設けた浸漬型の光照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-260129
公開番号（公開出願番号）：特開平10-085735
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1998年04月07日
要約：
【要約】【課題】 被処理水全体として、十分な光照射を受けるようにして、光照射効率を向上させ、水質の良い処理水を得るとともに、堰を設けて水位を保持する場合、堰の設置面積を大きくせず、 かつ、容易な施工で、安価なコストで、光照射処理を行う被処理水の流速の均等化を図ること。【手段】 紫外線ランプ等の光照射ランプを内蔵した光透過管を枠体に間隔を置いて取り付けて光照射モジュールを形成し、この光照射モジュールを開放型の被処理水路内に浸漬するとともに、開放型の被処理水路の処理水流出側に堰を付設して、細菌の殺菌、有機物の酸化分解、有害物質の分解等の光照射処理を行うについて、光照射モジュールの上方部に遮蔽パネルカバーを設置することによって、被処理水が光照射モジュールより上方を、十分な紫外線照射を受けずに、通過することを防止する遮蔽パネルカバーを設けた浸漬型の紫外線照射装置。
請求項（抜粋）：
光照射ランプを内蔵した光透過管の複数本を枠体に間隔を置いて取り付けて光照射モジュールを形成し、この光照射モジュールを開放型の被処理水路内に着脱可能に浸漬するとともに、開放型の被処理水路の処理水流出側に堰を付設して、被処理水の水位を確保して細菌の殺菌、有機物の酸化分解、有害物質の分解等の光照射処理を行うについて、光照射モジュールの上方部に遮蔽パネルカバーを着脱可能に設置することによって、被処理水が光照射モジュールより上方を、十分な光照射を受けずに、通過することを防止する遮蔽パネルカバーを設けた浸漬型の光照射装置。
引用特許：
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