熱処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松阪正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-325636
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093750
出願日： 2003年09月18日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】熱処理時に光照射部から照射される光のチャンバ本体の内部におけるエネルギーを計測する。【解決手段】熱処理装置1は、チャンバ本体6、チャンバ本体6の内部において基板9を保持する保持部7、基板9に光を照射することにより加熱する光照射部5、および、光のエネルギーを測定する光測定部2を備える。光測定部2は、チャンバ本体6の外部に配置されたカロリーメータ24、チャンバ本体6の内部の光をカロリーメータ24へと導く光導出構造20、および、カロリーメータ24からの出力に基づいて演算を行う演算部25を備える。熱処理装置1では、光照射部5からの光がカロリーメータ24によって計測されることにより、熱処理時に光照射部5から照射される光のチャンバ本体6の内部におけるエネルギーを計測することができ、演算部25により基板9の表面温度が求められる。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

基板に光を照射して加熱を伴う処理を行う熱処理装置であって、基板が処理される空間を形成するチャンバ本体と、前記チャンバ本体の内部の基板に光を照射する光照射部と、前記チャンバ本体の内部において前記光照射部からの光が入射する入射部と、前記入射部に入射する光のエネルギーを計測する計測部と、を備えることを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/31 , C23C16/46 , H01L21/26

FI (4件)：

H01L21/31 E , C23C16/46 , H01L21/26 J , H01L21/26 T

Fターム (9件)：

4K030KA24 , 5F045AA03 , 5F045AA06 , 5F045AA20 , 5F045AC15 , 5F045EK12 , 5F045EM10 , 5F045GB05 , 5F045GB17

引用特許：

出願人引用 (8件)

熱処理装置およびそのための光照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-300196 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
カロリーメータ
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-165313 出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社
特開昭62-015817

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審査官引用 (8件)

特開昭62-015817
化学気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-173535 出願人：富士通株式会社
特開昭62-105419

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