特許
J-GLOBAL ID：200903029666275768

中空糸膜の洗浄方法及び水処理設備

発明者：
松本 学

松本 学 について

, 
坂元 陽介

坂元 陽介 について


出願人/特許権者：
日立プラント建設株式会社

日立プラント建設株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-292669
公開番号（公開出願番号）：特開2006-102634
出願日： 2004年10月05日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】凝集沈殿処理の後に膜ろ過処理を行う場合であっても、膜の閉塞を抑制することができ、且つ、コストを削減できる中空糸膜の洗浄方法、及びそれが適用される水処理設備を提供する。【解決手段】酸洗浄液槽20内の酸洗浄液は、酸洗浄処理時に膜ろ過処理装置16に供給される。そして、膜ろ過処理装置16のケース36内に酸性洗浄液が溜まった際に、ケース36に連通する弁A〜Iが閉じられる。これにより、ケース36内に酸性洗浄液が保持された静置時間が設けられる。酸性洗浄液は、静置時間後に原水槽12に送られ、原水のpH調整に利用される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
凝集沈殿処理した処理水を膜ろ過処理する中空糸膜の洗浄方法において、 前記中空糸膜を有する膜モジュールに酸性の洗浄液を所定時間保持して静置する静置時間を設けるとともに、 前記静置時間後に前記膜モジュールから排液した酸性洗浄液を、前記凝集沈殿処理前の処理水に返送することを特徴とする中空糸膜の洗浄方法。
IPC (4件)：
C02F 1/44 ,  B01D 63/02 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/52
FI (4件)：
C02F1/44 H ,  B01D63/02 ,  B01D65/06 ,  C02F1/52 Z
Fターム (44件)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA03 ,  4D006JA20Z ,  4D006JA57Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA63 ,  4D006KA64 ,  4D006KB13 ,  4D006KC02 ,  4D006KC03 ,  4D006KC13 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KD11 ,  4D006KE06P ,  4D006KE15P ,  4D006KE15Q ,  4D006KE15R ,  4D006KE22Q ,  4D006KE23Q ,  4D006KE24Q ,  4D006KE28P ,  4D006MA01 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC29 ,  4D006MC33 ,  4D006MC39 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D015BA23 ,  4D015BB05 ,  4D015CA14 ,  4D015DA04 ,  4D015DA05 ,  4D015EA14 ,  4D015EA16 ,  4D015EA32 ,  4D015FA02 ,  4D015FA03 ,  4D015FA17 ,  4D015FA19
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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