特許
J-GLOBAL ID：200903029710724346
連続熱処理炉ならびに連続熱処理炉における雰囲気制御方法および冷却方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-056598
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335744
出願日： 1999年03月04日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：
【要約】【課 題】 ガスジェット冷却方式の急冷帯の雰囲気ガスと急冷帯隣接炉帯(加熱帯等及び冷却帯等)の雰囲気ガスとの混合を簡単な手段にて防止できる連続熱処理炉、および窒化を防止できる炉内雰囲気ガス制御方法を提供する。【解決手段】 複数の炉帯のうち最初と最後を除き1つが雰囲気ガス吹き付けにより材料を急速冷却する急冷帯11であり、かつ雰囲気ガスシール手段として入口部に上流側から第1、第2のロールシール装置4A、4Bで仕切られたロールシール室3と出口部に第3のロールシール装置4Cを有し、第1のロールシール装置入側部と第3のロールシール装置出側部とが接続され、および/またはロールシール室と急冷帯内最上流部6とが接続された連続熱処理炉とし、炉内水素濃度を急冷帯内で10%以上、また急冷帯入側の炉帯で10%以下に制御する。
請求項（抜粋）：
帯状の材料を雰囲気ガス中で熱処理しその途上で帯状の材料を加熱した後水素含有ガス吹き付けにより急速冷却する連続熱処理炉の雰囲気制御方法において、帯状の材料を加熱する炉帯および加熱後保持する炉帯の雰囲気ガス中の水素濃度を10%以下に制御することを特徴とする連続熱処理炉における雰囲気制御方法。
IPC (4件)：
C21D 9/573 101
, C21D 1/74
, C21D 1/76
, C21D 9/56 101
C21D 9/573 101 Z
, C21D 1/74 H
, C21D 1/74 L
, C21D 1/76 E
, C21D 9/56 101 J
