特許
J-GLOBAL ID:200903089559916311

帯板連続焼鈍設備

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-278309
公開番号(公開出願番号):特開平11-117024
出願日: 1997年10月13日
公開日(公表日): 1999年04月27日
要約:
【要約】【課題】 帯板に疵をつけたり騒音を発生させたりすることなく帯板を高熱伝達率で冷却することができる帯板連続焼鈍設備を提供する。【解決手段】 加熱帯40、均熱帯50、冷却帯10、過時効帯70、最終冷却帯80を帯鋼100の走行方向上流側から順に配設した帯板連続焼鈍設備において、冷却帯10の帯鋼100の走行方向上流側および下流側に当該帯鋼100の走行を可能にしながら冷却帯10を仕切る入側シール装置13または出側シール装置14を設け、高熱伝達率の高濃度な水素ガスからなる冷却ガス102を冷却帯10の内部へ送給する導入路15を冷却帯10に連結し、冷却帯10内の冷却ガス102を吸引するファン17の吸引口を冷却帯10に連結し、帯鋼100に対面するように冷却帯10のシェル16にガスジェットチャンバ11を複数取り付け、これらガスジェットチャンバ11に送気管12を介してファン17の送出口を連結し、ファン17の吸引口側にガス冷却器18を設けてなる。
請求項(抜粋):
走行する帯板を所定の温度に加熱する加熱帯と、加熱された前記帯板を所定の温度に冷却する冷却帯とを備えてなる帯板連続焼鈍設備において、前記冷却帯の内部を高濃度水素ガス雰囲気とする高濃度水素ガス雰囲気形成手段と、前記冷却帯に設けられ、当該冷却帯を走行する前記帯板に高濃度水素ガスを噴射する高濃度水素ガス噴射手段とを備えてなることを特徴とする帯板連続焼鈍設備。
IPC (3件):
C21D 9/573 101 ,  C21D 1/74 ,  C21D 9/56 101
FI (3件):
C21D 9/573 101 Z ,  C21D 1/74 H ,  C21D 9/56 101 A
引用特許:
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る