特許

J-GLOBAL ID：200903029747767568

反射防止膜、反射防止膜を含む積層体および反射防止膜の製造方法

発明者： 杉山 直樹 ,  関口 学 ,  佐藤 穂積
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-346706
公開番号（公開出願番号）：特開2000-171604
出願日： 1998年12月07日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】 優れた反射防止効果や耐汚染性等を有するとともに、酸素存在下においても光硬化反応により形成可能である反射防止膜およびそれを含む積層体並びにその製造方法を提供する。【解決手段】下記(A)および(B)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化してなる反射防止膜およびそれを含む積層体並びにその製造方法。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤

請求項（抜粋）：

下記(A)および(B)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化してなる反射防止膜。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤

IPC (2件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103

FI (2件)：

G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103

Fターム (31件)：

2K009AA04 ,  2K009AA07 ,  2K009AA15 ,  2K009CC09 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  4F100AA20A ,  4F100AA20H ,  4F100AK17A ,  4F100AK42B ,  4F100AK45B ,  4F100AK52A ,  4F100AR00A ,  4F100AR00H ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100CA02A ,  4F100CA04A ,  4F100CA30A ,  4F100DE01A ,  4F100DE01H ,  4F100GB90 ,  4F100JB14A ,  4F100JD15A ,  4F100JD15H ,  4F100JL06 ,  4F100JN06

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 低反射部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-341438   出願人：日東電工株式会社, 株式会社日立製作所
• 光硬化型シリコン被覆組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-348574   出願人：株式会社ラッキー
• 反射板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-018241   出願人：日本合成化学工業株式会社, 三菱化学株式会社
• 特開平2-289642
  
• 反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-331052   出願人：大日本印刷株式会社