特許

J-GLOBAL ID：200903029783049698

超音波洗浄処理方法及びその装置

発明者： 藤田 博 ,  桜井 直明 ,  齋藤 誠司
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-168329
公開番号（公開出願番号）：特開2000-354835
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：

【要約】【課題】 超音波洗浄技術で超音波処理槽の超音波発振開始時の音圧が、超音波発振の安定時に対し大きく変化しないように抑制することが可能な超音波処理方法とその装置。【解決手段】 発振電源6の立上り出力を、被処理物2に超音波振動を照射を開始してから定常状態になるまでの音圧が定常状態を超えないように制御する。

請求項（抜粋）：

発振電源の出力により振動する超音波振動板の超音波振動を超音波伝播槽内の超音波伝播液に伝播し、前記超音波伝播液に伝播された超音波振動を前記超音波伝播液に接して設けられた処理槽内の処理液に伝播し、前記処理液に伝播された超音波振動により前記処理液中に配された被処理物を洗浄処理する超音波洗浄処理方法において、前記被処理物に対する超音波照射開始時の超音波の音圧が定常状態時の音圧を越えないように前記発振電源の出力を制御することを特徴とする超音波洗浄処理装置。

IPC (2件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 642

FI (2件)：

B08B 3/12 B ,  H01L 21/304 642 E

Fターム (9件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高周波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-264176   出願人：株式会社プレテック, 大日本スクリーン製造株式会社
• 超音波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-046730   出願人：株式会社芝浦製作所
• 特開平2-247650
  
• 特開平2-247650