特許
J-GLOBAL ID：200903029817560591

基板洗浄装置

発明者：
大谷 正美

大谷 正美 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-045300
公開番号（公開出願番号）：特開2000-237700
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：
【要約】【課題】 基板表面に付着したパーティクルを効率的に除去できる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄ブラシ9は基板を洗浄する洗浄部9c、洗浄部9cを保持する保持部9dおよび支持部9eを備える。洗浄部9cは、複数のブラシ部9a,9bから構成される。ブラシ部9a,9bは、線径の異なる複数のブラシ材19a,19bによりそれぞれ形成される。これにより、ブラシ部9aとブラシ部9bとは剛性が異なる。洗浄ブラシ9が回転する基板に当接した際に、ブラシ部9a,9bから基板表面に付着したパーティクルに作用する摩擦力は、ブラシ部9a,9bごとに異なるため、同時に各種のパーティクルを基板表面から除去することができる。
請求項（抜粋）：
基板を洗浄する基板洗浄装置であって、基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、前記基板保持手段に保持された基板の表面に当接可能に設けられた洗浄ブラシとを備え、前記洗浄ブラシは、異なる剛性を有する複数のブラシ部と、前記複数のブラシ部を保持するブラシ保持部とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2件)：
B08B 1/04 ,  H01L 21/304 644
FI (2件)：
B08B 1/04 ,  H01L 21/304 644 G
Fターム (6件)：
3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116AB42 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BA34
引用特許：
審査官引用 (3件)

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