フッ素添加シリカガラス体の製造方法、光ファイバプリフォームおよび光ファイバの製造方法、ならびに光ファイバ

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：萩原亮一 , 石川祐子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-346434
公開番号（公開出願番号）：特開2005-206452
出願日： 2004年11月30日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：

【課題】 OH基による損失増加量が小さく、波長1380nmを含む帯域で信号を伝送するのに好適な光ファイバ、ならびに、この光ファイバに用いる光ファイバプリフォームおよびフッ素添加シリカガラス体の製造方法を提供する。【解決手段】フッ素添加シリカガラス体は、(1)シリカガラススートを堆積させシリカガラススート堆積体を得る工程、及び(2)少なくともフッ素原子を含有する第一のガス、および還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない第二のガスを含む雰囲気中で堆積体を加熱する工程を経て製造される。前記ガラス体を使用して得た光ファイバプリフォームを線引きし、または、前記フッ素添加シリカガラス体を加工してガラスパイプにし、これに別途用意したガラスロッドを挿入して一体化しながら線引きして光ファイバとされる。光ファイバは、クラッドがフッ素を含有し、波長1380nmでの伝送損失が0.32dB/km以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリカガラススートを堆積させ、シリカガラススート堆積体を得る工程と、少なくともフッ素原子を含有する第一のガスおよび還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない第二のガスを含む雰囲気中で前記堆積体を加熱する工程とを有することを特徴とするフッ素添加シリカガラス体の製造方法。

IPC (4件)：

C03B37/014 , C03B8/04 , C03B37/012 , G02B6/00

FI (5件)：

C03B37/014 Z , C03B8/04 P , C03B37/012 A , G02B6/00 356A , G02B6/00 376A

Fターム (10件)：

2H050AA01 , 2H050AB04X , 2H050AB10Y , 2H050AB18X , 2H050AB76 , 2H050AC75 , 2H050BD00 , 4G014AH21 , 4G021BA02 , 4G021CA13

引用特許：

出願人引用 (3件)

米国特許第6449415号明細書
米国特許第3933454号明細書
特公昭62-38292号公報(第7欄20〜23行)

審査官引用 (12件)

特開平1-275442
特開平4-050130
特表平7-507034

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