特許
J-GLOBAL ID：200903029851222824
合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
田中 政浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-105070
公開番号（公開出願番号）：特開2000-000466
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 低温において高い収率で合成ガスを得ることができる触媒及び製造方法を提供する。【解決手段】 上記課題は、少なくともイリジウム、白金、ロジウム、またはパラジウム担持金属酸化物と固体酸性化合物のいずれかを活性成分として含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から合成ガスを生成させる触媒によって解決される。
請求項（抜粋）：
少なくともイリジウム、白金、ロジウム、またはパラジウム担持金属酸化物と固体酸性化合物のいずれかを活性成分として含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から合成ガスを生成させる触媒
IPC (5件)：
B01J 23/46
, B01J 23/46 311
, B01J 23/42
, B01J 23/44
, C01B 3/32
B01J 23/46 M
, B01J 23/46 311 M
, B01J 23/42 M
, B01J 23/44 M
, C01B 3/32 Z
