特許
J-GLOBAL ID：200903084560534358
水素リッチガスを製造する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-012330
公開番号（公開出願番号）：特開平11-278803
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】 改質触媒の存在下にジメチルエーテルを水素に富んだ生成ガスに水蒸気改質することによって、ジメチルエーテルおよび/またはメタノールを含有する供給源から水素リッチガスを製造する方法を提供する。【解決手段】 吸熱水蒸気改質反応に必要な熱量が、水蒸気改質された供給源に含まれる水素の一部の酸化によって、水蒸気改質反応と熱伝導性の関係において供給される。
請求項（抜粋）：
改質触媒の存在下にジメチルエーテルを水素に富んだ生成ガスに水蒸気改質することによって、ジメチルエーテルおよび/またはメタノールを含有する供給源から水素リッチガスを製造する方法において、吸熱水蒸気改質反応に必要な熱量が、水蒸気改質された供給源に含まれる水素の一部の酸化によって、水蒸気改質反応と熱伝導性の関係において供給されることを特徴とする上記方法。
IPC (5件)：
C01B 3/32
, B01J 19/00
, B01J 23/38
, C01C 1/04
, C07C273/04
C01B 3/32 Z
, B01J 19/00 E
, B01J 23/38 M
, C01C 1/04 D
, C07C273/04
