特許
J-GLOBAL ID:200903029853791320

投影露光装置及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-112055
公開番号(公開出願番号):特開2003-309057
出願日: 2002年04月15日
公開日(公表日): 2003年10月31日
要約:
【要約】【課題】 従来のEUV縮小投影露光装置は、反射型マスクを使用しており、その反射型マスクに対して同じ側に照明系と投影光学系とが配置されるので、露光装置全体の大きさをある程度コンパクトにしようとすると、その照明系や投影光学系等を構成する様々な光学部材どうしが物理的に干渉しかねなかった。【解決手段】 光源からの光で反射型マスクを照明し、その照明された反射型マスクのパターンを投影光学系により基板に投影する投影露光装置において、反射型マスクを照明する光が投影光学系の光学部材間を通過するように構成した。
請求項(抜粋):
光源からの光で反射型マスクを照明し、該照明された反射型マスクのパターンを投影光学系により基板に投影する投影露光装置において、前記投影光学系は複数の光学部材を有し、前記反射型マスクを照明する光が前記投影光学系の光学部材間を通過することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505
FI (2件):
G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 531 A
Fターム (10件):
2H097CA17 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046CB02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB25 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10
引用特許:
審査官引用 (3件)

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