特許
J-GLOBAL ID:200903029907117310
波長変換型半導体素子
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山崎 輝緒
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-040745
公開番号(公開出願番号):特開2002-246647
出願日: 2001年02月16日
公開日(公表日): 2002年08月30日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、反射面として機能する電極の反射率を高めると共に、接触抵抗を低減するようにした、波長変換型半導体素子を提供することを目的とする。【解決手段】 pn接合を構成する下方のp型層13及び上方のn型層12と、これらの上方に配設された波長変換材17と、p型層の下面に備えられ且つp型層に電気的に接触したpn接合からの励起光を外部に透過させない第一の電極14と、p型層及びn型層の端面を包囲し且つn型層のみに電気的に接触した第二の電極16と、を含む波長変換型半導体素子10であって、上記第二の電極が、pn接合からの励起光の波長近傍にて反射率の高い材料から成る厚さ10nm以上の高反射率金属層16aと、コンタクト金属薄膜層16b、とから構成されるように、波長変換型半導体素子を構成する。
請求項(抜粋):
pn接合を構成する下方のp型層及び上方のn型層と、p型層の下面に備えられ且つp型層に電気的に接触したpn接合からの励起光を外部に透過させない第一の電極と、p型層及びn型層の端面を包囲し且つn型層のみに電気的に接触した第二の電極と、を含む半導体素子であって、上記第二の電極が、pn接合からの励起光の波長近傍にて反射率の高い材料から成る厚さ10nm以上の高反射率金属層と、コンタクト金属薄膜層と、から構成されていることを特徴とする、半導体素子。
FI (3件):
H01L 33/00 E
, H01L 33/00 C
, H01L 33/00 D
Fターム (18件):
5F041AA14
, 5F041AA21
, 5F041CA02
, 5F041CA34
, 5F041CA41
, 5F041CA65
, 5F041CA74
, 5F041CA82
, 5F041CA92
, 5F041CA93
, 5F041CA98
, 5F041CB15
, 5F041DA07
, 5F041DA12
, 5F041DA20
, 5F041DA43
, 5F041DB09
, 5F041EE25
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-152301
出願人:三洋電機株式会社
-
発光ダイオード
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-191476
出願人:スタンレー電気株式会社
前のページに戻る